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题目：: 1; 3; 2; 5
题目：: 11; 8; 10; 9
题目：超纯水制水处理系统再生部分选择（）水泵。: 高压; 低压; 耐酸碱的ABS水泵; 未知
题目：当RO系统暂停使用一周以上时，系统应以（）浸泡，防止细菌在膜表面繁殖。: 5%盐酸; 4%氢氧化钠; 1.0%浓度的亚硫酸氢纳; 1%富尔马林溶液
题目：对三氯氢硅中痕量杂质的分析采用蒸发法使用微量高纯水和SiHCL3作用产生少量（）水解物，对痕量杂质元素有吸附作用。: HCL; SiH; SiO2; Si
题目：对三氯氢硅中痕量杂质的分析主要试剂盐酸是优级纯再经（）提纯两次。: 有机玻璃蒸发器; 聚乙烯蒸馏器; 石英亚沸蒸馏器; 聚四氟乙烯
题目：多介质过滤器制备纯水时，每周要检测一次砂滤出水SDI值，若SDI超过（），则检查原因。: 6; 5; 7; 8
题目：反渗透装置是超纯水治水系统中提纯的（）部分。: 维护; 预脱盐; 清洗; 软化
题目：放射线同位素的量越多，放出的射线的强度（）。: 不变; 越小; 越大; 随机变化
题目：离子交换床在工作的任何时候，混床进水压力小于（），否则有机玻璃交换柱会破裂。: 190; 160; 170; 180
题目：离子交换树脂是一种高分子化合物，是由（）和活性基团两部分组成。: 树脂的骨架; 碱性树脂; 阴树脂; 阳树脂
题目：露点法测定气体中的水分职业中，本岗位存在的危险源是（）。: 液氮低温冻伤; 没有明显危险源; 温度过高; 潜在氢气泄露引起的爆炸
题目：全自动软化过滤器设计过滤体材质选用（）。: 玻璃; 钢铁; 炭钢; FRP增强玻璃钢内衬PE
题目：三氯氢硅中痕量磷的气相色谱法的基本原则是（）法。: 自然挥发法; 基于时间的差别进行分离; 过滤; 化学分离
题目：三氯氢硅中硼的分析采用（）法。: 基于时间的差别进行分离; 自然挥发法; 过滤; 化学分离
题目：树脂失效表明离子交换树脂可供交换的（）大为减少。: ; ; ;
题目：通常把线度小于（）cm的缺陷称为微缺陷。: 10月1日; 10月3日; 10月2日; 10月4日
题目：以下那一项不是三氯氢硅中痕量磷的气象色谱测定步骤中，在温度680度和石英石的催化作用下，样品及其含磷杂质分别被氢还原产物（）。: 氯化氢; 水; 混合氯代硅烷; 磷化氢
题目：制取高纯水时一般采用（）交换树脂和（）交换树脂。: 强碱型阳离子强碱型阳离子; 强碱型阴离子强酸型阳离子; 强酸型阳离子强酸型阴离子; 强酸型阳离子强碱型阴离子
题目：RO反渗透技术是利用（）为动力的膜分离过滤技术。: 压力差; 离子交换; 电力; 吸附力
题目：纯水制备系统运行控制注意事项，以下表述错误的是（）。: 离子交换床在工作的任何时侯，混床进水压力大于160Pa; 软化器工作时，自动启动原水增压泵，其他高压泵都处于停止状态; 无论何时，反渗透系统都要将脓水调节阀和进水调节阀完全关闭; 设备第一次使用时，所制纯水应至少排放1h后再收集
题目：高纯水的检测时，测量方法有（）。: 蒸发测量法; .静置测量法; 反渗透测量法; 流动测量法
题目：混床的再生中是两种树脂充分混合的方法有（）。: 加入混合剂使之混合; 用压缩空气自底部进入，上口排除; 用真空泵进行混合，自上口抽气，打开下口阀门进气，用空气搅动阴阳离子交换树脂达到充分混合的目的; 自然混合法
题目：混合离子交换器由以下那几个装置组成（）。: 排水装置; 中排装置; 进水装置; 再生装置
题目：离子交换法制备纯水时，新树脂的预处理方式是（）。: 变形处理; 膨胀处理; 稀释处理; 混合处理
题目：利用X射线形貌图来计算单晶中位错密度常用的方法有（）。: 利用X射线形貌立体投影的方法; 计算单位体积中位错线的长度; 计算形貌图上穿过一定长度的位错线的数目; 缀饰法
题目：露点法测定气体中水分的过程控制表述正确有（）。: 测定时，在封底铜管内加入制冷剂，在插入一直-80℃低温温度计小心搅拌，使温度下降，注意观察，当喷口所对的铜管表面出现露斑，即读出温度值，这就是测得的露点温度; 通常测-34℃以下气体观察到的是霜点，根据实验测得霜点和露点相应温度差约4℃; 测定流速控制在250—300ml/min; 用金属导管将被测气体导入露点瓶，出口气体经石蜡液封瓶放空测定前要赶气1h
题目：露点法测定气体中职业健康安全运行控制正确的是（）。: 在分析氢气露点时用大气赶走气，要注意把氢气引到室外; 存在危险源：液氮低温冻伤; 操作过程酒精可不必谈注意; 因没有有毒气体不必做任何防护
题目：三氯氢硅中硼的分析试剂表述错误的是（）。: ; 5%甘露醇溶液存入聚乙烯瓶中; 氢氟酸优级纯氢氟酸，再经自制的聚乙烯蒸馏器蒸馏一次，经分析合格后备用; 直径6mm的光谱纯（无B）石墨电极
题目：下列哪三项是天然水的三大杂质（）。: 悬浮物质; 挥发物质; 溶解物质; 胶体物质
题目：一个气相色谱系统包括（）。: 进样口; 检测器; 色谱柱; 可控而纯净的载气源
题目：影响树脂再生的主要因素有（）。: 终点PH值的大小; 离子交换树脂的分离、反洗效果、混合程度、清洁卫生等; 杂质量的多少; 再生剂的类型、强度、浓度、流速、酸、碱液与离子交换树脂接触的时间等
题目：质谱分析造成其误差较高的因素有（）。: 离子质量影响用谱线黑度来反映强度; 元素本身的性质、样品中元素的选择及离子源火花条件对电离效率的影响; 杂质在样品中的不均匀分布; 主元素谱线的干扰
题目：中子活化分析的特点有（）。: 灵敏度高; 非破坏性分析; 分析速度快，精度高; 不易沾污和不受试剂空白的影响
题目：自动软化系统出现下述情况之一（）就必须进行化学清洗。: 装置的纯水量比初期投运时或上一次清洗后降低5%-10%; 装置的单次的浓缩比比初期投运时或上一次清洗后降低10%-20%时; 装置各段的压力差值为初期投运时或上一次清洗后的1-2倍; 装置需要长期停运时用保护溶液保护前
题目：自动软化系统反洗的目的是（）。: 通过反洗，试运行中压紧的树脂层松动，有利于树脂颗粒与再生液充分接触; 是树脂表面积累的悬浮物及碎树脂随反洗水排出，从而是交换器的水流阻力不会越来越大; 提高软化效果; 清除树脂层中残留的再生废液
题目：自动软化系统工位由（）盐箱注水组成。: 反洗; 运行; 再生+慢洗; 快洗
题目：RO系统清洗时注意事项有（）。: 清洗结束后，取残夜进行化学分析，确定污染物种类，为日后清洗提供依据; 清洗时注意温度上升情况，务必保持高于35℃; 固定清洗剂可直接加到其他试剂，不用充分混合即可进入反渗透装置;
题目：RO系统清洗条件有（）。: 装置的单次的浓缩比比初期投运时或上一次清洗后降低10%—20%时; 装置需长期停运时用保护溶液保护前; 装置各段的压力差值为初期投运时或上一次清洗后的1—2倍; 装置的纯水量比初期投运时或上一次清洗后降低5%—10%时
题目：X射线形貌技术的试验方法有（）。: 反射形貌法; 透射形貌法; .双晶光谱仪法; .异常透射法
题目：.放射线同位素的量越多，放出的射线的强度越少。
题目：纯水制备系统过程中原水箱回流阀要全关闭。
题目：纯水制备系统要每周检测一次砂滤出水SDI值，若SDI值超过5，就要检查原因。
题目：对三氯氢硅中痕量杂质的分析采用化学药剂提纯法。
题目：工厂生产的阳离子交换树脂一般为氯型。
题目：硅单晶中线度小于10-4cm的缺陷称为微陷
题目：混床交换在再生处理时，阴离子交换树脂和阳离子交换树脂充分混合。
题目：活性炭过滤器在作为反渗透装置的前处理是是受本身进水温度、PH值和有机混合物的影响的。
题目：离子交换法是利用离子一次性交换和树脂一次性交换进行的。
题目：离子交换法制备纯水用一种阴树脂或氧树脂就可得到酸性水或碱性水。
题目：露点法检测气体中的水分是通常测-34℃以下气体观察到的是露点。
题目：气相色谱法测定干法H2的组成存在的环境因素是潜在的氢气泄露引起的燃烧核爆炸。
题目：色谱法基本原理是基于时间的差别进行分离。
题目：树脂失效表明离子交换树脂可供交换的和大为减少。
题目：为了使氢离子和氢氧根离子完全结合成水，阴、阳树脂必须交换出等量的离子。
题目：新树脂使用前应进行预处理：膨胀处理和变形处理。
题目：只有多介质过滤器处于运行时才能对活性炭过滤器进行日常维护。
题目：制取高纯水时一般采用强碱型阴离子交换树脂。
题目：自动软化系统EBT测定如未软化，测试液呈红色则需再生。
题目：RO系统清洗过程应密切注意清洗液温度上升，不得超过35℃。
“题目：6.将下列混床再生中操作步骤一一对应。
（1）逆洗分层 A.再生剂为5%的NaOH，用量为树脂体积的3-5倍，从上口进入，控制一定流速，维持液面顺流通过
（2）强碱性阴离子交换树脂再生 B.水从底部进入，上口排出，树脂均匀地松弛蓬松开来，可加大水流速以冲不出树脂为原 则，洗至出水清高度
（3）强酸性阳离子交换树脂再生 C.再生剂为5%盐酸，用酸量为阳离子交换树脂体积的2-3倍 {（3）
; （2）
; （1）
} -> {C; B; A}”
“题目：将下列多介质过滤器工作原理与内容一一对应。
（1）反洗 A.将原水泵停止，阀门关闭，让多介质自然下沉，使沙层排列平整
（2）静止 B.原水由进口进入控制阀，从阀芯的上部经阀体内，并由顶部进入罐体
（3）正洗 C.水从底部进入石英砂过滤层后由上部排除 {（1）
; （2）
; （3）
} -> {B; A; C}”
“题目：将下列离子交换树脂的类型与变型用化学试剂用量浓度一一对应。
（1）强酸型离子交换树脂 A.5%-10%盐酸溶液3000ml
（2）强碱型离子交换树脂 B. 5%-10%氢氧化钠溶液2500ml
（3）干树脂 C.4%-5%Nacl溶液浸泡 {（2）
; （1）
; （3）
} -> {B; C; A}”
“题目：将下列露点法测定气体中的水分时职业健康安全进行控制一一对应。
（1）危险源 A.意把氢气引出室外
（2）分析氢气露点时用大气赶走气 B.液氮低温冻伤
（3）酒精放置
{（1）
; （2）
; （3）
} -> {B; A; C}”
“题目：将下列天然水中杂质三大部分情况一一对应。
（1）悬浮物质 A.溶胶、硅胶、铁、铝
（2）胶体物质 B. 细菌、泥沙、黏土等其他不容物质
（3）溶解物质 C. Ca 、Mg、Na、Fe、Mn的酸式碳酸盐 {（3）
; （2）
; （1）
} -> {C; A; B}”
“题目：将下列质谱分析造成其误差较高的因素与原因一一对应。
（1）杂质不均匀 A.与元素本身性质、样品中元素的选择及离子源火花条件有关
（2）各元素电离效率 B.因为质谱分析一次只消耗少量样品，不能代表整个样品杂质含量
（3）谱线黑度 C.受到很多因素，如离子质量影响 {（1）
; （2）
; （3）
} -> {A; B; C}”
“题目：将下列自动软化系统工艺过程一一对应。
（1）反洗 A.再生用盐液在一定浓度、流量下，流经失效的树脂层，使其恢复原有的交换能力
（2）再生吸盐+慢洗 B.向再生剂箱中注入溶液再生一次所需盐量的水
（3）再生剂箱注水 C.树脂失效后，在进行再生之前，先用水自上而下流出 {（3）
; （1）
; （2）
} -> {C; A; B}”
“题目：将下列RO膜污染原因与适应药液一一对应。
（1）碳酸盐结垢 A.1.5%EDTA溶液
（2）有机物污染及硫酸盐结构 B.1%富尔马林溶液
（3）细菌污染 C.3%柠檬酸溶液 {（1）
; （2）
; （3）
} -> {C; B; A}”
题目：将下列三氯氢硅中痕量杂质的化学光谱测定的主要试剂与要求一一对应。
题目：将下列质谱分析造成其误差较高的因素与原因一一对应。
题目：将下列气相色谱法测定干法H2的组分时样品测试各恒温系统与温度一一对应。
